KSL-1700X-H2 是一款通過 CE 認證的高溫箱式爐,此款儀器專門針對于材 料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火,其最高溫度可高達 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料(爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm), 以鉬絲作為加熱元件,爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管,以保證儀器工作時的密 封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結的材料(如熒光材料,鈦合金 等),KSL-1700X-H2 是一個非常好的選擇。
雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統,是專為在金屬箔上生長薄膜而設計的,特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機可通過滑動爐體,實現快速加熱和冷卻。
1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區可垂直開啟式立式管式爐,其爐管直徑可制作為100mm,適合于在真空或氣氛保護環境下對樣品進行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動架,以便移動。
1400℃雙溫區真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件,采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)等工藝,特別適合批量生產使用。
2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60適用于高真空狀態下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化,也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作,如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進行設置,但升溫速度過快對鎢爐膽的壽命會有所降低,為了延長爐子的使用壽命,每分鐘的升溫速度不宜超過40℃。
1700℃箱式爐(36L)KSL-1700X-A4采用側開式爐門,以硅鉬棒為加熱元件,智能溫度調節儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用,對爐內溫度進行測溫調節和自動控制,最高工作溫度可達1700℃,與同系列其他型號相比,具有更大的有效爐膛。
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X是一款適用于大尺寸樣品燒結的管式爐,采用高純石英管,外徑規格多樣(6″、8″、8.5″、11″),配備不銹鋼法蘭,可抽真空或通入氣氛氣體。其最高溫度可達1100℃,工作溫度1000℃,采用PID控制器,支持51段控溫程序,控溫精度±1℃,保溫效果好,爐膛溫度均勻性高。設備安全可靠,操作簡單,適用于多種氣氛環境下的材料燒結、合成及熱處理等實驗。
CIP-50MAF(分體式)電動等靜壓機是把制品放置于盛滿液體的密閉容器中,通過對其各個表面施加相等的壓力,在高壓的環境下,使得制品的密度變大,并得到所需的形狀。隨著科學技術的進步,等靜壓機越來越廣泛應用于粉末冶金、復合材料、耐火材料、陶瓷、硬質合金等的成型。本機的設計是針對于大專院校、科研院所的材料研究部門,具有體積小、運行可靠、操作容易的特點。
三靶高真空磁控鍍膜濺射系統是一款國產小型科研與教學用鍍膜設備,采用模塊化設計,安裝靈活、易于維護。該設備由超高真空雙靶磁控濺射室、旋轉樣品架、磁控濺射靶、抽氣系統等組成,極限真空優于5.0×10??Pa,可實現單靶、雙靶輪流或共濺射,支持反應磁控濺射制備多種膜系,具備快速抽氣、不停機更換樣品、加熱與旋轉樣品等功能,性價比高,適用于單層膜、多層膜系的鍍制及各類材料的薄膜制備實驗。
真空燒結爐(VSF)是一種在真空環境下對材料進行燒結、退火及釬焊等工藝的生產設備,具有臥式、立式等多種結構形式,可選配不同真空泵組。其加熱室采用多點測溫及控溫,配備石墨加熱元件和隔熱層,最高溫度可達2200℃,加熱均勻且節能。同時,該設備配備大功率風機和高效熱交換器,冷卻速度快,爐門密封性好,具備全自動智能控溫系統和可視化人機界面,可實現精準控制和工藝管理,并配有自動安全聯鎖,結構緊湊、自動化程度高,符合環保節能要求。
真空自耗重熔爐(VAR)是一款專門用于生產高溫合金和鈦合金等特種合金材料的設備,它由熔煉電源、控制系統、真空系統、爐體、冷卻水系統以及氣動與液壓系統等主要部件構成。這款合智真空自耗爐具備自動熱封頂技術、X-Y電極對中及精確稱量系統、全同軸導電和熔滴控制功能,確保了恒定的熔煉速度和高質量的熔煉過程。
鈦合金真空自耗重熔爐(RVAR) ,在高真空下利用直流電弧加熱熔化活潑金屬的真空冶煉成套設備。是專門用來熔煉有色活性金屬鈦、鋯及高溫合金等的特殊冶煉設備。
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