權利要求書: 1.一種太陽能電池(1)的制造方法,該太陽能電池具有異質結、針對光入射設置的前側(15)和與所述前側(15)對置的背側(16),其中該方法具有以下步驟:?提供第一傳導類型的晶體半導體襯底(2);
?在所述半導體襯底(2)的前側表面上形成至少一個第一無定形納晶和/或微晶半導體層或半導體層組(3,5),或是在形成與所述第一傳導類型相反的第二傳導類型的前側發射極情況下,或是在形成所述第一傳導類型的前側表面區位的情況下;
?在所述半導體襯底(2)的背側背面上形成至少一個第二無定形納晶和/或微晶半導體層或半導體層組(4,6),或是在形成所述第一傳導類型的背側表面區位情況下,或是在形成所述第二傳導類型的背側發射極情況下;
?在所述前側發射極或所述前側表面區位上形成至少一個導電透明的前側電極層(7),并且在所述背側表面區位或所述背側發射極上形成至少一個導電透明的背側電極層(8);
?形成前側金屬接觸層格柵結構(9)以導電接觸所述前側發射極或所述前側表面區位;
?在形成所述前側金屬接觸層格柵結構(9)之后,在前側上PECD沉積非導電的透明介電前側覆層(11);和?在所述背側電極層(8)上形成背側金屬化結構;
其特征是,為了沉積所述前側覆層(11)而采用不需要掩模的表面選擇性PECD沉積或熱絲CD,并且所述前側覆層(11)以這樣的厚度被沉積,使得所述前側覆層(11)緊接在其層沉積之后在沒有附加的熱處理和/或化學處理情況下只在環繞所述前側金屬接觸層格柵結構(9)的區域上而沒有在所述前側金屬接觸層格柵結構(9)上形成一個封閉層,其中,所述導電透明的前側電極層(7)是TCO層,為了形成所述前側接觸層格柵結構(9)而選擇主要由銀或銅構成的材料,并且該材料在采用膏糊情況下以指形結構形式被印制;
為了沉積所述前側覆層(11),采用至少一個SiOx層、SiNx層、SiOxNy層或由至少兩種上述材料的組合物構成的層或層組;
所述前側覆層(11)在采用硅烷化合物情況下被沉積;并且
所述前側覆層(11)在50℃至250℃之間的溫度范圍內被沉積。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征是,所述背側金屬化結構的形成具有以下步驟:?形成背側金屬接觸層格柵結構(10)以便導電接觸所述背側發射極或所述背側表面區位;
?在形成所
聲明:
“太陽能電池制造方法、用該方法制造的太陽能電池和襯底座” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)