本發明涉及功能材料技術領域,特別涉及一種高性能薄膜吸氣劑及其應用。本發明公開了一種薄膜吸氣劑利用與其化學成分相同的吸氣合金靶材制備得到,所述薄膜吸氣劑包括主體元素,所述主體元素為Ti、Zr中的一種或兩種;優選的,所述薄膜吸氣劑還包括Sc、Y、V、Hf和Ta中的任意一種或者任何組合。該薄膜吸氣劑具備高的吸氣量,能夠有效的維持MEMS芯片器件的高真空性能要求,達到信號的穩定性和高靈敏性。
聲明:
“高性能薄膜吸氣劑及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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