一種多項式擬合的納米隨機表面光學特性快速預測算法。該方法以電化學制備納米隨機表面為基礎,以襯底材料和加工條件(反應溫度、直流電壓、電解液種類和濃度以及加工時間)作為輸入,納米隨機表面的微觀形貌結構參數和反射光譜為輸出組成一一對應的數據庫,構建以輸入條件組合的多項式模型。該模型不但能預測納米隨機表面的微觀形貌結構參數,還可以預定納米隨機表面的微觀形貌結構逆向求解輸入條件。本發明可以大大節省隨機納米功能材料的設計成本、加工成本和測試成本,在緊湊型光譜儀、吸波材料、電磁隔離材料、仿生材料領域具有重要應用價值。
聲明:
“多項式擬合的納米隨機表面光學特性快速預測算法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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