本發明屬于功能材料技術領域,具體涉及一種無基板Mg基儲氫薄膜及其制備方法。制備步驟包括:在基板上旋涂光刻膠犧牲層,再依次磁控濺射沉積TM/Mg基/TM多層功能儲氫薄膜,溶解光刻膠犧牲層從襯底上剝離儲氫功能薄膜,離心洗滌并在真空室溫環境下干燥獲得新型納米結構的Mg基儲氫材料。本方法制備的無基板Mg基儲氫薄膜材料改善了現有方法中基板與薄膜間應變引起的薄膜破裂、脫落等情況,并且將有效含氫量所占體系質量從0.0025%最高提升至7.4%。此外,無基板Mg基儲氫薄膜材料具有強抗氧化能力和低脫氫溫度,并能在近室溫條件實現可逆加氫反應。
聲明:
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