本申請公開了一種流體處理裝置,包括:基體,包含具有流體入、出口的第一流體通道,該流體入口分布于該基體的第一表面的第一區域內;流體阻擋部,具有與該第一表面相對設置的第二表面;多個凸起部,所述凸起部沿橫向在所述第一表面的第二區域連續延伸,其中相鄰凸起部之間形成有可供流體通過的溝槽,并且所述凸起部具有沿橫向相背對的第一、第二端,該第一端與該第一表面密封連接,該第二端的局部區域與該第二表面密封連接,從而使所述多個凸起部、流體阻擋部與基體配合形成與第一流體通道連通的第二流體通道。本申請的流體處理裝置具有通量大、流阻小、能高效清除流體中微/納米級顆粒等特點,可重復使用,使用壽命長,且適于規?;笈可a。
聲明:
“流體處理裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)