一種裝置,包括:腔室和可拆卸地連接到該腔室的噴嘴,該噴嘴限定孔口;設置在腔室內的靶轉盤;第一激光器,其被配置成生成第一光束,該第一光束被引導朝向靶轉盤以執行原位燒蝕來形成激光羽流;氣體流系統,其被配置成將氣體供應到腔室中,使得氣體與激光羽流相互作用并引起納米顆粒的凝結和形成;以及第二激光器,其被配置成生成第二光束,該第二光束被引導通過腔室的內部、通過噴嘴的孔口,并且朝向設置在裝置外部的基底,該第二激光束被配置成將離開噴嘴的納米顆粒燒結和結晶在基底上。
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