溶劑揮發法制備石墨相氮化碳/{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦納米復合材料,它涉及有機聚合物/無機半導體納米復合材料的制備。本發明是為了解決現有{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦光催化劑光響應范圍窄和量子效率低的問題。制備方法如下:一、制備石墨相氮化碳;二、制得{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦納米片;三、制備固體物質;四、制得石墨相氮化碳/{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦納米復合材料。本發明所得石墨相氮化碳/{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦納米復合材料不僅紫外光催化活性高,還具備優良的可見光催化能力。本發明用于制備石墨相氮化碳/{001}面暴露銳鈦礦相二氧化鈦納米復合材料。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)