本發明提供一種低介電常數POSS/聚氨酯復合材料薄膜及其制備方法,屬于高分子材料技術領域。該復合材料是由具有式Ⅰ結構的POSS和具有式Ⅱ結構的聚氨酯組成。本發明還提供一種低介電常數POSS/聚氨酯復合材料薄膜的制備方法。該方法先將八苯基POSS溶于溶劑中,得到八苯胺基POSS溶液;然后將聚氨酯加入到八苯胺基POSS溶液中攪拌,得到混合溶液,將混合溶液傾倒于玻璃板上,然后將玻璃板移入真空烘箱中烘干,得到低介電常數POSS/聚氨酯復合材料薄膜。本發明的復合材料具有較低的介電常數和較好的機械性能。
聲明:
“低介電常數POSS/聚氨酯復合材料薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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