本發明公開了一種用于高分子納米復合材料制備的化學氣相沉積工藝,涉及高分子復合材料技術領域,該工藝具體包括以負載鎳銅箔為基體,經過覆鎳和熱處理;將碳源氣化,以氬氣和氫氣混合氣體為保護氣體,在一定溫度條件下沉積,沉積結束后以10K/s速率進行降溫,待基底降溫至200℃時,將沉積的石墨烯層取下;將取下的石墨烯材料去重金屬后再和納米二氧化鈦一起,經熱還原制備出石墨烯納米二氧化鈦復合材料。本發明采用銅箔作為生成石墨烯碳材料的基材,在銅箔上負載15%的Ni,并通過熱處理活化負載的Ni,使負載的Ni原子和周圍Cu原子融為一體,通過Cu原子吸附碳原子,Ni原子催化碳原子的結合機理生成完整的單層石墨烯材料。
聲明:
“用于高分子納米復合材料制備的化學氣相沉積工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)