本發明屬于光催化降解技術領域,涉及夾層片狀Bi2O3/UiO?66?NH2復合材料及其制備和應用,制得方法為:先在超聲處理好的Bi2O3和ZrCl4的DMF溶液中加入2?氨基對苯二甲酸充分并持續攪拌,接著轉移至含特氟龍內村的高壓反應釜中,于150±10℃反應20~30h。復合材料中UiO?66?NH2一方面可以使Bi2O3的禁帶寬度變窄,另一方面會擴大可將光譜吸收范圍,提高可見光利用率,同時構建了復合材料表面異質結,改變了電子遷移路徑,從而抑制電子?空穴對的復合,大大提高了光催化降解效率。
聲明:
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