本發明公開了一種g?C3N4/Bi2O2CO3納米片復合材料的制備方法,步驟如下:將三聚氰胺于坩堝中,放入馬弗爐中,升溫至500?510℃焙燒3?4h,冷卻得g?C3N4;將碳酸鈉加入去離子水中使pH為10.5?11.5,加入CTAB和g?C3N4,超聲40?50min;將五水硝酸鉍溶于硝酸后,攪拌下將此混合液滴入上述懸浮混合物,使pH為8.8?9.2,攪拌2.5?3.5h,離心分離,洗滌,干燥即得。該制備方法簡便、快捷、易操作,制備的復合材料中Bi2O2CO3以2D納米片形式分布在g?C3N4表面形成異質結,具有優異的光催化性能。
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