本發明公開了一種硬X射線和光電子屏蔽復合材料,包括X射線屏蔽層和光電子屏蔽層,所述X射線屏蔽層的雙面或單面設置光電子屏蔽層,所述X射線屏蔽層采用高Z材料制成,所述光電子屏蔽層采用低Z材料制成。本發明采用高Z材料和低Z材料組成的層疊型功能復合材料,不僅能夠有效屏蔽X射線,又能對光電子進行有效屏蔽,減少光電子對電子設備的影響,解決了現有硬X射線屏蔽的屏蔽性能較差的問題。
聲明:
“硬X射線和光電子屏蔽復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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