本發明公開了一種GO?NiCoS?NiMoLDH復合材料,由氧化石墨烯GO、片狀NiCo2S4和納米花狀NiMoLDH構成;其中,GO為基體材料,微觀形貌為納米片結構,作用是導電基底利于電子的超高速輸運;NiCo2S4的微觀結構為納米片結構,負載于GO的表面,作用是提供額外贗電容;NiMoLDH的微觀結構為納米片結構,嵌于NiCo2S4納米片結構的表面,作用是增大NiCo2S4的比表面積;其制備方法為兩步水熱法,步驟1,GO?NiCo2S4的制備;步驟2,GO?NiCoS?NiMoLDH的制備。作為超級電容器電極材料的應用,在0?0.5 V范圍內充放電,在放電電流密度為1 A g?1時,比電容為1300?1400 F g?1;在放電電流密度為20A g?1時,在3000圈循環后的循環穩定性為100%。具有以下優點:形成由納米片組成納米花的分層結構避免納米片的聚集;NiCo2S4和NiMoLDH之間還存在協同作用。
聲明:
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