本發明屬于光催化領域,尤其涉及一種在限域空間構筑氮化碳基超薄納米片復合材料的制備方法,按如下步驟實施:(1)將氰胺與蛭石混合,程序升溫至300~400℃,再緩慢冷卻至室溫,得到氰胺插層蛭石前體:(2)將所述氰胺插層蛭石前體與有機溶液攪拌反應,抽濾洗滌后烘干;在空氣中加熱至500~650℃,再緩慢冷卻至室溫;(3)將所得產物與強酸反應,抽濾洗滌濾餅后烘干。本發明成本低,易于工業化生產,目的產物分散性好且具有優良光催化性能。
聲明:
“在限域空間構筑氮化碳基超薄納米片復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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