本發明提供一種氫氧化物離子傳導致密膜,具有氫氧化物離子傳導性,并且,每單位面積的He透過率為10cm/min·atm以下。根據本發明,能夠提供可顯著降低氫氧化物離子以外的物質(特別是鋅二次電池中引起鋅枝晶生長的Zn)透過、由此特別適用于電池用隔板等規定用途(特別是鋅枝晶生長構成問題的鋅二次電池用途)的、致密性極高的氫氧化物離子傳導致密膜。
聲明:
“氫氧化物離子傳導致密膜及復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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