本發明公開了一種納米線增強羥基磷灰石涂層的制備方法,用于解決現有方法制備的鈣磷/膠原復合涂層與基體界面結合力差的技術問題。技術方案是首先對C/C復合材料進行預處理,再在C/C復合材料表面原位生長SiC納米線,最后在含SiC納米線的C/C復合材料表面電化學沉積HA涂層。由于SiC納米線可使界面處的HA涂層內聚力提高,借助SiC納米線的拔出與界面釘扎作用,提高了涂層與基體的界面結合力,進而提高了涂層的力學性能。涂層與基體的拉伸強度由背景技術的4.83±0.71Mpa提高到5.65±0.28MPa~8.05±0.41MPa。
聲明:
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