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    碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應用、光學反射鏡

    879   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 17:00:09
    本發明涉及一種碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應用、光學反射鏡，屬于材料領域。制備方法包括：采用等離子噴涂?物理氣相沉積方法將含有Si元素的涂層沉積于基體的表面，基體的原料包括碳化硅基復合材料，碳化硅基復合材料包括SiC/SiC復合材料。該制備與傳統制備技術相比，可減少涂層中的熱應力和裂紋數量，拋光后可滿足目前太空反射鏡光學要求。制備而得的碳化硅基致密硅涂層致密均勻、硬度適中、拋光性好，熱變形系統小、抗熱震性好，具有較佳的熱性能及機械性能且耐環境能力強。
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