本發明涉及一種碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應用、光學反射鏡,屬于材料領域。制備方法包括:采用等離子噴涂?物理氣相沉積方法將含有Si元素的涂層沉積于基體的表面,基體的原料包括碳化硅基復合材料,碳化硅基復合材料包括SiC/SiC復合材料。該制備與傳統制備技術相比,可減少涂層中的熱應力和裂紋數量,拋光后可滿足目前太空反射鏡光學要求。制備而得的碳化硅基致密硅涂層致密均勻、硬度適中、拋光性好,熱變形系統小、抗熱震性好,具有較佳的熱性能及機械性能且耐環境能力強。
聲明:
“碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應用、光學反射鏡” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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