本發明涉及化學氣相沉積(CVD)技術領域,具體涉及一種利用微波加熱的化學氣相沉積方法。所述方法步驟包括:(1)將石墨、碳化硅、石墨復合材料或碳化硅復合材料中的一種,加工成所需形狀的基體,懸掛在反應腔體內,將反應腔體密封并抽真空至0.1~1Torr;(2)利用微波輻射加熱基體,微波的輸出功率為1~80kW,將基體加熱至500~1200℃;(3)向反應腔體內通入反應氣體,通氣時間為1~20小時,在通氣過程中,基體溫度保持在500~1200℃,得到薄膜材料,反應尾氣經過金屬屑以及噴淋洗滌完全吸收后排出。本發明利用微波加熱基體,縮短了基體升溫時間,提高了生產效率。
聲明:
“利用微波加熱的化學氣相沉積方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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