本發明涉及一種單面耐電暈的聚酰亞胺復合薄膜及其制備方法,屬于電機電氣絕緣技術領域。該薄膜包括上下兩層,上層為復合材料層,下層為聚酰亞胺基膜層,該復合材料層包括聚酰亞胺基體和表面改性后的納米三氧化二鋁。本發明涉及的薄膜以高性能的純聚酰亞胺薄膜為基膜能夠確保復合薄膜具有優異的機械性能,對基膜進行電暈處理以期提高界面相容性,利用新型偶聯劑增加三氧化二鋁在聚合物基體中分散性,并能有效地提高摻雜劑量,并能有效地提高耐電暈特性;所制備的雙層復合膜兼備了高耐電暈性能和高機械性能特性,能夠作為高性能單面耐電暈薄膜材料廣泛使用。
聲明:
“單面耐電暈的聚酰亞胺復合薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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