本發明公開了一種MoS2帶孔納米片/石墨烯復合納米材料及其制備方法,其由單層和少層數的MoS2帶孔納米片與石墨烯復合構成,MoS2與石墨烯之間的物質的量之比為1 : 1-1 : 3。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中,再加入陽離子型柱[5]芳烴超分子,并充分攪拌,然后依次加入L-半胱氨酸和鉬酸鈉,充分攪拌使其溶解,將上述混合分散體系轉移到水熱反應釜中,于230-250℃下水熱反應20-24h后,自然冷卻至室溫,離心收集水熱固體產物,用去離子水充分洗滌,干燥,最后在氮氣/氫氣混合氣氛中熱處理,制備得到MoS2帶孔納米片/石墨烯復合納米復合材料。本發明的方法具有簡單、方便的優點。
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