本發明公開了一種還原氧化石墨烯/羥基鈦酸鈣復合層狀結構材料及其制備方法,該復合層狀結構材料基底和原位生長于所述基底上的羥基鈦酸鈣納米片;基底為由還原氧化石墨烯彼此連接形成的層狀結構;羥基鈦酸鈣納米片原位生長于還原氧化石墨烯邊緣部分,且插入還原氧化石墨烯的褶皺與相鄰還原氧化石墨烯的片層之間;還原氧化石墨烯/羥基鈦酸鈣復合層狀結構材料中,還原氧化石墨烯的質量占比為5~30%。該復合層狀結構材料通過一步水熱反應制備得到。本發明提供的還原氧化石墨烯/羥基鈦酸鈣復合層狀結構材料,通過兩種層狀材料的相互協同提高了復合材料的電化學活性面積,同時提高其導電性。
聲明:
“還原氧化石墨烯/羥基鈦酸鈣復合層狀結構材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)