本發明屬于無機/聚合物光學納米復合材料領域,具體涉及一種透明高折射率石墨烯量子點/聚合物納米復合薄膜及其制備方法。復合薄膜是由石墨烯量子點和聚合物紫外固化以和熱固化后形成,在固化之前每1mL聚合物單體中,石墨烯量子點的含量為0.1~1g。是以石墨烯量子點(GQDs)作為無機納米相,以聚合物單體作為溶劑,通過溶劑熱法在聚合物單體中合成出GQDs,然后經過過濾、旋涂、加入引發劑、紫外固化以及熱固化雙重處理直接固化成膜。所制備的膜層材料所得到的透明高折射率復合薄膜的透過率為80~95%,折射率為1.5~2.8,望在減反射涂層、光波導材料、光學透鏡以及其他光電領域實現應用。
聲明:
“透明高折射率石墨烯量子點/聚合物納米復合薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)