本發明屬于新能源技術開發領域,尤其涉及一種三維錐形納米層膜結構、制備方法及其應用。本發明提供一種三維錐形納米層膜結構,為:二氧化硅?二氧化鉿復合層以及銀層,二氧化硅層設置于二氧化鉿層的上方;二氧化硅?二氧化鉿復合層的數量大于10層,銀層的上方設置有二氧化硅?二氧化鉿復合層。本發明還提供了一種上述的三維錐形納米層膜結構的制備方法,本發明還提供了一種上述三維錐形納米層膜結構或上述的制備方法得到的產品在輻射冷卻裝置中的應用。本發明中,引入三維錐形納米層膜結構,可實現高性能的雙窗口大氣輻射,并最終可以實現高效率的被動輻射冷卻降溫的能力;解決了現有技術中,日間冷卻的方法存在著凈輻射冷卻功率較低的技術缺陷。
聲明:
“三維錐形納米層膜結構、制備方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)