本發明提供一種基于金屬硬掩模的鈮酸鋰薄膜光子芯片及其加工方法,該方法包括:S1,利用真空磁控濺射技術在鈮酸鋰薄膜表面沉積一層金屬鉻層;S2,在所述金屬鉻層上旋涂一層電子束抗蝕劑,通過電子束直寫光刻將待加工的圖案轉移到所述電子束抗蝕劑上;S3,采用基于氯氣的金屬刻蝕工藝刻蝕所述金屬鉻層,形成金屬硬掩模;S4,在所述金屬硬掩模和電子束抗蝕劑雙重保護下,通過反應離子刻蝕所述鈮酸鋰薄膜,實現微米量級光子芯片的加工。本發明具有加工精度高、刻蝕選擇比高、結構深寬比好、結構表面污染水平低等優勢,可用于鈮酸鋰薄膜上高精度、高光滑度的脊形波導、微環諧振腔等光子芯片的制造。
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