本申請公開了一種鈮酸鋰薄膜電光調制器,所述鈮酸鋰薄膜電光調制器包括襯底晶片(1)、鈮酸鋰薄膜基板(2)、鈮酸鋰光波導(3)、鈮酸鋰薄膜內襯(4)、行波電極(5)、保護層(6)和引出電極(7),通過改進一般設計中電光調制器中的行波電極結構,將金屬電極(5)部分區域覆蓋在刻蝕區域,部分覆蓋在鈮酸鋰薄膜內襯(4)上,在電極間距相同的情況下,增加了微波的有效折射率,從而實現波速匹配,提高電光調制器帶寬。本申請還提供一種鈮酸鋰薄膜電光調制器的制備方法,基于本方案中的行波電極結構,直接對鈮酸鋰薄膜進行刻蝕得到需要的波導結構,減小刻蝕區域,降低工藝難度和成本。
聲明:
“鈮酸鋰薄膜電光調制器及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)