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    基于氧化硅掩膜的鈮酸鋰光子芯片制備方法

    1150   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 21:26:18
    一種基于氧化硅掩膜的鈮酸鋰光子芯片制備方法，利用等離子體增強氣相沉積法沉積得到用于保護鈮酸鋰圖案的二氧化硅掩膜層，然后依次涂設導電膠和光刻膠并通過電子束光刻得到所需圖案，實現亞微米級的脊狀波導的制備，再通過反應離子刻蝕以及采用氬離子刻蝕鈮酸鋰，形成帶有二氧化硅掩膜的鈮酸鋰圖案層和脊狀波導。本發明能夠實現寬度在亞微米量級的傳輸損耗低的片上脊狀波導且具有較高的加工效率、加工精度高和加工可控性，可用于制備的側壁光滑度高、光學傳輸損耗低的光學波導及其他相關的片上微納光學元件。
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