本發明公開了一種具有鎳酸鋰緩沖層的外延鈦酸鍶鉛薄膜及制備方法。在MGO基板的一面沉積一層緩沖層導電電極LNO薄膜,在緩沖層導電電極LNO薄膜上再沉積一層鈣鈦礦相PST薄膜。其步驟如下:首先以碳酸鋰,氧化鎳,碳酸鉛,碳酸鍶,氧化鈦為原料,用固相燒結法分別制備鎳酸鋰靶材和鈦酸鍶鉛靶材;其次將(001)MGO基板清洗后放入反應室,反應室抽真空,并加熱基板,以氧氣為保護氣體,引入反應室中,脈沖激光濺射靶材,在基板上先后外延沉積鎳酸鋰緩沖層和鈦酸鍶鉛薄膜。本發明制備方法簡單,制得的鈦酸鍶鉛薄膜外延性好,質量高,薄膜的介電可調性可達40%到70%。
聲明:
“具有鎳酸鋰緩沖層的外延鈦酸鍶鉛薄膜及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)