本發明公開了一種用于鈮酸鋰光學晶片研磨拋光的拋光液。本發明拋光液成分和體積%比組成如下:硅溶膠30~90;有機胺堿1~10;無機堿1~5;活性劑0.5~5;螯合劑FA/O 0.5~5;去離子水為余量。本發明在CMP條件下,在高pH值條件下,將鋰離子形成極穩定的絡合物和形成易溶于水的鈮酸鹽,提高效率和表面質量;本發明通過有機堿與鈮酸鋰表面物質形成可溶性胺鹽,易于脫離反應表面,從而避免增加磨料粒度和拋光液的黏度,有效地解決了劃傷、平整性和吸附物去除問題。
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