本發明涉及鈮酸鋰(LiNbO3)晶體化學機械拋光(CMP)后,鈮酸鋰晶體表面的應力控制方法。本發明鈮酸鋰晶體CMP后應力控制方法,CMP剛剛完成后清洗時,采用逐漸慢慢加大水拋清洗液流量,充分釋放鈮酸鋰晶體表面的熱應力,達到鈮酸鋰晶體內外熱應力一致,從而有效地避免了鈮酸鋰晶體清洗過程中易產生開裂、碎晶的問題發生,完美實現了鈮酸鋰晶體CMP后的應力控制,大大提高了鈮酸鋰晶體因開裂、碎晶導致的加工良率。
聲明:
“鈮酸鋰晶體化學機械拋光后的應力控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)