本發明涉及一種波導及其制作方法,屬于光器件領域,具體涉及一種高偏振消光比鈮酸鋰波導及其制作方法。本發明在鈮酸鋰光波導芯片進行質子交換前對其下表面進行涂覆保護,使得鈮酸鋰基片下表面無質子交換發生,這樣便可以輔助開槽、制作光柵以及涂覆吸光層等方法,降低TM漏模(或TE漏模)耦合進入輸出光纖,提高鈮酸鋰波導的TE/TM偏振消光比。
聲明:
“高偏振消光比鈮酸鋰波導及其制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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