本發明公開了一種適用于退火質子交換工藝的鈮酸鋰清洗方法,在退火質子交換法制備鈮酸鋰相位調制器芯片的制備介質掩模工藝和質子交換工藝之間以及質子交換工藝和退火工藝之間增設徹底清洗晶圓工藝,所述徹底清洗晶圓工藝包括以下步驟:將晶圓置于濃硫酸雙氧水洗液中浸泡;置于無水乙醇中加熱并進行超聲處理;置于丙酮中加熱并進行超聲處理;置于RCA一號洗液中加熱并進行兆聲超聲處理;置于RCA二號洗液中加熱恒溫處理;采用去離子水兆聲噴灑。本發明采用濃硫酸雙氧水混合洗液替代鉻酸洗液,避免了鉻酸洗液中大量的金屬離子雜質污染襯底,同時也達到去除有機污染物的目的。
聲明:
“適用于退火質子交換工藝的鈮酸鋰清洗方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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