本發明公開了一種用于制備高抗拉鋰電銅箔的電解液,包含主電解液和添加劑,主電解液包含硫酸銅、硫酸和氯離子,添加劑包含A劑、B劑、C劑,A劑為含硫雜環化合物,B劑為含氮天然或合成高分子化合物,C劑為嵌段聚醚類化合物。本發明的電解液通過采用特定的添加劑及其配比優化,可以有效控制晶粒的生長,減少銅箔缺陷,獲得致密的銅箔,以此制備的銅箔,具有高抗拉強度、高延伸率。
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“用于制備高抗拉鋰電銅箔的電解液” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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