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    金屬電極的制備方法

    1052   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-18 23:42:36
    本發明公開了一種金屬電極的制備方法,包括:在鈮酸鋰襯底上沉積金屬種子層;在所述金屬種子層上沉積硅層,所述硅層的厚度大于10μm;在所述硅層上制作掩膜圖形,所述掩膜圖形所暴露的位置為金屬電極的位置;在所述掩膜圖形所暴露的位置處進行刻蝕得到硅凹槽,所述硅凹槽處暴露出金屬種子層;使用電極金屬填充所述硅凹槽,得到金屬電極。本申請中的方案通過硅刻蝕的方式得到金屬填充的硅凹槽,在硅凹槽內制備金屬電極,由于硅層厚度大于10μm,因此通過本申請方法制備得到的金屬電極的厚度能夠大于10μm,同時金屬電極的高寬比可以大于3。采用本申請制備得到的金屬電極可極大提高鈮酸鋰電光調制器的帶寬。
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