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    多孔硅基薄膜及制備方法

    929   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 23:58:02
    本發明公開了一種多孔硅基薄膜的制備方法，采用物理氣相沉積或者化學氣相沉積的方法將Si薄膜與選定的另一種薄膜制備成多層膜結構，被選定的另一種薄膜材料既作為Si擴散出來的輔助材料，又作為Si復合負極中的復合材料；然后在適當的溫度下進行熱處理，發生非對稱擴散，部分硅顆粒從TiO2中擴散出來，之后將擴散到表面的Si去除即得到具有空隙結構的Si基多層膜負極。本發明相比于其他一些Si基薄膜電極的優點：Si基薄膜電極結構穩定，能量密度高，壽命長；Si薄膜造孔方便，容易控制且環境友好；薄膜韌性好，可制備較厚薄膜電極；本方法制得的電極片不僅能緩解Si的體積膨脹、提高鋰離子擴散速率，還能保持優異的循環穩定性。
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