本發明涉及電路板制造領域,特別涉及一種超厚銅鍍鎳金板制作方法。
背景技術:
科技的發展促使印制線路板向多功能化發展趨勢,產品形態多樣化,表面處理也呈現多樣化,電鍍鎳金就是其中一種,但當銅厚≥12oz時,類似板的設計線寬間距能力需≥32/32mil,因為當鍍鎳金板線寬線距小于能力范圍時,蝕刻后會側蝕出現線路變小問題。比如完成銅厚要求12oz,線寬線距10/10.5mil時,業內視為超能力無法制作。此導致線寬制作有局限性,無法達到更高的銅厚和精細線路化。
技術實現要素:
本發明提供了一種超厚銅鍍鎳金板制作方法,以解決至少一個上述技術問題。
為解決上述問題,作為本發明的一個方面,提供了一種超厚銅鍍鎳金板制作方法,包括:
步驟1,開料:通過開料機將紫銅箔裁切成預定尺寸;
步驟2,鉆孔:使用鉆孔機將工具孔鉆出鉚合用鉚釘孔;
步驟3,內光成像:在板面貼上干膜,再用底片對位,最后在曝光機上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜發生反應,在板面形成所需線路圖形,然后通過顯影段在顯影液的作用下,將沒有被光照射的膜溶解掉,將需要電錫的區域露出來;
步驟4,電錫:在錫槽通過電鍍原理,在板上的導電區域鍍上一層金屬錫層進行抗蝕刻保護,錫層厚度≥10um;
步驟5,內層控深蝕刻:在堿液的作用下,將膜去掉露出待蝕刻的銅面,在蝕刻缸銅蝕刻至銅基總厚度的一半,在退錫缸去掉鍍錫層,露出線路焊盤銅面;
步驟6,層壓:通過疊放半固化片、光板,用管位釘鉚合好后,通過半固化片的樹脂流動,填充線路與基材,經固化將層間粘合在一起;
步驟7,鉆孔:使用鉆孔機鉆不同孔徑的通孔;
步驟8,沉銅:使用化學沉積的方式將孔壁金屬化;
步驟9,vcp電鍍:使用整板電鍍銅的方式將孔銅及覆銅板上的面銅鍍;
步驟10,外光成像:在板面貼上干膜,再用底片對位,最后在曝光機上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜發生反應,在板面形成所需線路圖形,然后通過顯影段在顯影液的作用下,將沒有被光照射的膜溶解掉,將需要鍍鎳厚硬金的區域露出來;
步驟11,鍍鎳金:在鎳槽和金槽通過電鍍沉積客戶要求厚度的鎳層和金層;
步驟12,退膜:將板上的干膜褪干凈,露出金屬層;
步驟13,外光成像:將退膜后的板件上涂布一層感光性濕膜,預固化以后再貼一層干膜,在曝光機上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的濕膜和干膜發生反應,在板面形成所需
聲明:
“超厚銅鍍鎳金板制作方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)