權利要求書： 1.一種高致密電熔氧化鎂制備方法，其特征在于，其具體工藝步驟如下：步驟一，將菱鎂礦石破碎篩分得氧化鎂原料；
步驟二，向氧化鎂原料中加入占總質量0.01?0.5wt%的鋯粉，及0.01?0.05wt%的氧化鈣，所述鋯粉粒度為0.1?100μm，在干燥條件下混合均勻得產物一；
步驟三，將碳塊電極破碎篩分得電極原料；
步驟四，以質量百分數計，將10?15wt%的所述產物一鋪在電熔爐底部，再將10?15wt%的所述電極原料鋪在電熔爐中心底部圓柱電極周圍的區域里；所述電熔爐三種火線電極隨機命名為第一電極、第二電極和第三電極；
步驟五，打開交流電源，進行引弧，待電流穩定后，將30?50wt%所述產物一在電熔溫度一下均勻加入到電極附近電熔處理；
步驟六，關閉步驟五交流電源，打開直流電源，待電流穩定后，將30?50wt%所述產物一在電熔溫度二下均勻加入到所述電極附近，繼續電熔處理；
步驟七，關閉電源，停止電熔，隨爐自然冷卻后出爐，得到所述電熔氧化鎂。
2.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，所述氧化鎂原料粒徑≦80mm；所述電極原料粒徑≦50mm。
3.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，步驟一所述菱鎂礦石為氧化鎂質量百分比含量≧45%的菱鎂礦石。
4.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，步驟二所述干燥條件下相對濕度小于
5%。
5.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，步驟五所述電極為空心石墨電極或實心石墨電極。
6.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，所述第一電極、第二電極和第三電極數量比為2:1:1；所述電熔爐第一電極截面面積和電熔爐截面積比例范圍：1?12:100；所述電熔爐第二電極或第三電極與所述第一電極橫截面直徑比例為1.2?2:1；所述第一電極與第二電極或第三電極距離滿足a=kU；所述第一電極與相鄰第一電極距離b=1.414kU；所述U為相鄰電極電壓；所述k取1?10之間任一實數。
7.根據權利要求1所述制備方法，其特征在于，步驟五和步驟六中電熔時間為1?12h。
8.根據權利要求1?7任一項所述制備方法，其特征在于，步驟七中冷卻時間為24?48h；
電熔溫度一為2000?2800℃；和/或，電熔溫度二為2000?2800℃。
9.一種高致密電熔氧化鎂
聲明：
“高致密電熔氧化鎂及其制備方法和制備裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：營口理工學院
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2025年07月24日 ~ 26日 
