權利要求
1.燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：
S1：磁體預處理：采用激光清洗方法對燒結釹鐵硼磁體進行表面預處理，并用惰性氣體及時將污物吹離磁體表面；
S2：真空蒸鍍Al薄膜的制備：在真空蒸鍍裝置中，通過采用真空蒸鍍工藝在預處理后的磁體表面沉積一層Al薄膜；
S3：激光重熔處理：采用激光重熔技術對磁體表面沉積的Al薄膜進行改性處理，提高Al薄膜的致密度以及與基體之間的結合力。
2.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法，其特征在于：所述S1中磁體預處理，采用激光清洗方法對燒結釹鐵硼磁體表面進行預處理，以去除磁體表面的油污及氧化皮，所述激光清洗的工藝參數包括：激光功率為100～2500W，激光束波長為1064nm，脈沖寬度為50～300ns，激光掃描速度為5～150mm/s，激光入射角為20～90°；所述S1中磁體預處理，使用惰性氣體及時將激光清洗后的污物吹離磁體表面，避免清潔表面再次污染和氧化，所述惰性氣體為氬氣、氦氣中的一種。
3.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法，其特征在于：所述S2真空蒸鍍Al薄膜的制備，采用真空蒸鍍工藝在預處理后的磁體表面沉積一層Al薄膜，所述真空蒸鍍的工藝參數包括真空度為1×10-3～5×10-3Pa，蒸發電流為2000～2900A，真空蒸鍍時間為50～80min。
4.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法，其特征在于：所述S3激光重熔處理，采用激光重熔技術對磁體表面沉積的Al薄膜進行改性處理，提高Al薄膜的致密度以及與基體之間的結合力；所述激光重熔的工藝參數包括：激光功率為1000～3000W，掃描速度為5～15mm/s，光斑尺寸為2～5mm，搭接系數為5％～20％，并充入惰性氣體作為保護氣，所述惰性氣體為氬氣或氦氣中的一種。
5.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法，其特征在于：所述真空蒸鍍裝置包括有外殼(1)、坩堝(2)和調節夾具(3)；所述外殼(1)的內部靠近外殼(1)的底面位置固連有坩堝(2)，且坩堝(2)的內部用于放置蒸發材料；所述外殼(1)的內部于坩堝(2)的頂部位置設有調節夾具(3)；所述調節夾具(3)包括有推桿(4)、電機(5)和轉
聲明：
“燒結釹鐵硼磁體表面Al薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：北礦磁材（阜陽）有限公司
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2025年07月09日 ~ 11日 
