一種制備三維有序大孔BiVO4的抗壞血酸輔助膠晶模板法,屬于功能材料技術領域。采用以PMMA微球為硬模板(膠晶模板),以抗壞血酸為表面活性劑(偏釩酸銨∶抗壞血酸摩爾比為1∶1-2),以乙二醇、甲醇、硝酸和去離子水的混合液為溶劑,以硝酸鉍和偏釩酸銨為金屬源,將含有以上表面活性劑、溶劑和金屬鹽的混合溶液浸漬PMMA后,經焙燒后制備具有單斜白鎢礦結構的三維有序大孔BiVO4。本發明具有原料廉價易得,制備過程簡單,產物形貌和孔尺寸可控等特征。本發明制備的單斜白鎢礦結構BiVO4具有多孔結構的特點和較高的比表面積,在光催化劑、電極材料、離子導體材料等等方面具有良好的應用前景。
聲明:
“制備三維有序大孔BiVO4的抗壞血酸輔助膠晶模板法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)