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    聚吡咯熒光復合膜及其制備方法

    977   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:03:02
    本發明提供的一種聚吡咯熒光復合膜及其制備方法，由以下組分制成：N?乙烯基吡咯、氧化劑、無機納米氧化物、分散劑、聚乙烯醇、去離子水，其比例為0.1mol：(0.05～0.1)mol：(0.3～0.8)g：(6～12)g：(30～90)g：500g。本發明選取具有熒光性的可溶性N?乙烯基吡咯，通過其與無機納米氧化物復合，使其成為一種新型的聚吡咯熒光材料，再輔以聚乙烯醇，進一步提高了成膜性和可加工性。與傳統聚吡咯功能材料相比，不僅克服了聚吡咯難溶融和難以加工成型的缺點，而且成為具有較好熒光性的新型功能材料。該聚吡咯熒光復合膜在熒光傳感器、熒光探針、熒光分了溫度計、光電材料等領域應用前景廣泛。
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    “聚吡咯熒光復合膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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