本發明名稱為“透明導電膜的等離子體增強化學氣相沉積設備”,屬于光電功能材料的規?;a設備。本發明為實施特殊金屬氧化物薄膜的制造技術,著重解決大面積薄膜的性能優良,厚度均勻及廢氣排放等問題。其特點在于設置了特殊的均壓噴口,用接地電極對射頻電極進行充分的屏蔽、安裝冷阱捕集反應廢氣。本發明適用于多種氧化物薄膜的大面積制造。
聲明:
“透明導電膜的等離子體增強化學氣相沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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