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    氧化鎘鎂合金透明導電薄膜及其制備方法

    1159   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:06:02
    本發明公開了一種氧化鎘鎂合金透明導電薄膜，該薄膜采用磁控濺射技術，設計合理的濺射參數制備而成。磁控濺射的靶材為氧化鎘和氧化鎂，薄膜中鎂的原子數百分比組分含量值x為：0≤x＜0.5；薄膜厚度為：170—290nm。本發明研究認為，增大薄膜中鎂的含量，可實現薄膜在短波范圍的截止波長繼續向短波方向的拓展，從而拓寬其光學帶隙，有效提高短波范圍的光透過性能，使其在太陽輻射波長375—1800nm之間，光譜透過率達到75%以上，而鎂組分含量與靶材濺射功率、靶材和基片之間的距離、及與薄膜沉積時間長短相關。本發明以磁控濺射方法調節薄膜中Mg的含量，操作簡便，只要控制好設計參數，便能工業化規范生產，使之在太陽能電池、光電探測等光電功能材料和器件領域中獲得良好的應用前景。
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    “氧化鎘鎂合金透明導電薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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