一種耐電子束轟擊的二次電子發射復合薄膜及其制備方法,屬于功能薄膜材料制備技術領域。以高純金屬銀為基底材料,一定原子比的鎂鋁合金作為濺射源物質,以一定流量的高純氬氧混合氣體作為工作和反應氣體,在一定溫度條件下,采用直流反應磁控濺射覆膜技術,通過調整濺射功率、沉積時間、氣體流量比等參數,制備得到的MgO/Al2O3復合薄膜具有較高的二次電子發射系數和較好的耐電子束轟擊性能。采用所述方法制備MgO/Al2O3復合薄膜功能材料具有膜厚可控、成分均勻、二次電子發射系數高和耐電子束轟擊性能優異等優點。
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