一種Al1?xInxN三元合金納米晶薄膜及其制備方法,屬于三族氮化物光電子信息功能材料與器件領域。該薄膜具有平整光滑的表面形貌,粗糙度為2~3nm,可調組分在0≤x≤0.92,厚度為1.8~6.38μm。其制備方法為:將襯底基片設置在Al靶材正上方,在Al靶材上表面設置有若干個金屬In塊,采用直流輝光清洗襯底基片;抽真空并烘烤去除射頻磁控濺射裝置腔室水分,調節氬氣流量為50~60sccm,氮氣的流量為30~40sccm,在0.8~1.2Pa,維持5~8min,將襯底基片以10~15圈/min進行旋轉,進行濺射1.5~3h,得到Al1?xInxN三元合金納米晶薄膜。該方法具有成本低、調控試驗參數少、易控制和可靠性強等特點,有利于大規模推廣應用。
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