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    Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法

    1001   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:07:01
    本發明屬于光電子信息功能材料技術領域，具體涉及一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法，包括如下步驟：稱取ZnO粉末和Ga2O3粉末，其中Ga占總粉末的摩爾百分含量為1~3%，將稱取的粉末經預燒結和燒結處理，制得Ga摻雜ZnO靶材；將襯底和制得的靶材裝入磁控濺射鍍膜機中，將濺射室抽真空，通入氬氣，控制工作壓強為0.1~0.5Pa；將襯底的溫度升至300~600℃，控制濺射功率為80~120W，進行鍍膜處理，制得Ga摻雜ZnO透明導電薄膜，本發明的制備方法可大面積規?；a、工藝簡單、成本低，制得的透明導電薄膜表面平整致密，粗糙度較小，電阻率低，透過率高，性能穩定，應用前景廣闊。
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    “Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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