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    光敏性二胺及其制備方法

    1098   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:08:01
    一種光敏性二胺及其制備方法,屬于材料技術領域中的感光性小分子功能材料,可用于合成光刻膠重要組分的光敏聚酰亞胺(PSPI)材料。所述光敏性二胺主要成分的化學結構式為(見圖),其中A為含芳香環的基團,Y為含“烷基取代的丙烯?；?、丙烯酸酯或烯丙基”的酯基、取代酰胺基、或醚基。所述光敏性二胺的制備方法是以含二硝基的酰氯與不飽和醇或不飽和胺反應生成相應的酯或酰胺,然后用還原鐵粉對含光敏基團的二硝基化合物進行還原后得到。本發明的光敏性二胺具有較高密度的光敏活性基團,同時這些光敏基團均能與曝光波長相匹配,使得感光靈敏度得到大幅度提高,可用于制備高光敏性和分辨率性能的光敏聚酰亞胺材料。所述制備方法簡單、容易控制。
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