本發明涉及一種聲阻抗均勻梯度變化的匹配層及超聲換能器。聲阻抗均勻梯度變化的匹配層包括殼體、錐體結構以及填充材料,在所述殼體內設置有一個或多個錐體結構,所述填充材料填充于錐體結構與殼體之間的間隙,沿錐體結構的高度方向,聲阻抗從匹配層的一端至另一端呈梯度漸變分布。本發明提供的匹配層,與傳統的均勻匹配層材料相比,材料密度非均勻,材料聲阻抗呈均勻梯度變化,匹配層聲阻抗由壓電陶瓷片聲阻抗均勻梯度漸變為作用介質聲阻抗。
聲明:
“聲阻抗均勻梯度變化的匹配層及超聲換能器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)