本申請涉及用于制備基膜、層合體或偏振膜的方法。本申請可以提供一種可拉伸的基膜,其將伸長率和恢復率同時保持在適當的水平并確保耐水性,因此可以有效地用于制備例如偏振膜。本申請還可以提供使用所述基膜的層合體或用于使用所述基膜制備偏振膜的方法。所述基膜可以有效地用于制備具有優異功能(例如偏振性能)同時厚度為例如約10μm或更小、約8μm或更小、約7μm或更小、約6μm或更小、或者約5μm或更小的偏振膜。
聲明:
“基膜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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