本發明公開了一種多孔金剛石膜/三維碳納米線網絡復合材料的制備方法及其產品,屬于金剛石膜復合材料制備技術領域;所述制備方法包括:在硅襯底上沉積出金剛石膜;然后采用磁控濺射法,在所得金剛石膜表面濺射一層過渡金屬膜;之后將磁控濺射處理后的金剛石膜置于微波化學氣相沉積系統中,進行微波等離子體刻蝕即得所述復合材料;本發明將金剛石膜的多孔處理與其復合材料制備合二為一,在金剛石膜表面原位制備出的多孔金剛石膜/三維碳納米線網絡復合材料具有高比表面積、良好的導電性和多位點的優勢,在藥物負載、化學催化、傳感器等領域具有廣闊的應用前景。
聲明:
“多孔金剛石膜/三維碳納米線網絡復合材料的制備方法及其產品” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)