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    具有極低紅外發射率的熱偽裝納米復合材料的制備方法

    813   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:30:02
    本發明涉及一種具有極低紅外發射率的熱偽裝納米復合材料的制備方法。通過選用二維金屬過渡碳/氮化物納米片為無機填料，以水性或油性聚氨酯、聚丙烯酸酯及環氧樹脂等作為高分子基體，通過持續高速攪拌使得高分子充分且均勻地吸附在MXene納米片上，從而獲得高分子?MXene復合納米漿料。所制備的漿料可以通過澆筑、涂布或者噴涂等方法施工，最終固化得到塊材、板材或薄膜等多種形式的復合材料，可以在各種軍事武器裝備表面使用。在波長為2.5～15.4μm的中紅外范圍內復合材料的紅外發射率可低至0.2以下，厚度僅為5μm的柔性復合材料薄膜可以將溫度高達100℃的高溫表面偽裝至33.8℃，長期使用時性能非常穩定，且機械性能十分優異。因此在軍事領域展示出了極大的應用前景。
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    “具有極低紅外發射率的熱偽裝納米復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    復合材料
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